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用于半導(dǎo)體制造工藝的單組分密度計(jì)介紹

發(fā)布時(shí)間：2021-11-18　點(diǎn)擊量：730

用于半導(dǎo)體制造工藝的單組分密度計(jì)介紹


產(chǎn)品概覽

該型號(hào)在保留 FUD-1 Model-13 的可維護(hù)性和高精度在線測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，配備了用于半導(dǎo)體制造工藝的小型單元發(fā)射器。


單組分密度計(jì)的特點(diǎn)

實(shí)時(shí)濃度測(cè)量成為可能，并且易于構(gòu)建濃度控制系統(tǒng)。

  • 標(biāo)配模擬DC4-20mA和數(shù)字RS232C

  • 標(biāo)配測(cè)量誤差輸出和報(bào)警輸出

  • 標(biāo)配自診斷功能和錯(cuò)誤信息顯示

  • 緊湊輕便的單元式變送器可直接安裝在線路上

  • 由于使用 PFA 的接液部件的質(zhì)量和小輸出設(shè)計(jì)，對(duì)化學(xué)溶液沒(méi)有影響。


優(yōu)點(diǎn)

  • 可進(jìn)行高精度連續(xù)測(cè)量

  • 免維護(hù)，無(wú)需定期調(diào)整和校準(zhǔn)

  • 安裝方便，安裝過(guò)程中無(wú)需進(jìn)行各種調(diào)整

  • 通過(guò)實(shí)時(shí)輸出輕松反饋過(guò)程


用途

  • CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度控制等。

  • 稀釋過(guò)程中各種化學(xué)品的濃度控制（H2O2、TMAH、HNO3、H2SO4、HCl等）

  • 清洗過(guò)程中清洗液濃度控制（HF、NH4OH、KOH、IPA等）

  • 蝕刻過(guò)程中蝕刻液濃度控制（HF、H2SO4等）