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光譜干涉儀技術(shù)在薄膜測(cè)厚儀上的運(yùn)用

發(fā)布時(shí)間：2022-02-18　點(diǎn)擊量：658

光譜干涉儀技術(shù)在薄膜測(cè)厚儀上的運(yùn)用

適用于光學(xué)薄膜和透明涂膜

模型FOS
測(cè)量方法非接觸式/光譜干涉儀
測(cè)量對(duì)象電子、光學(xué)用透明平滑膜、多層膜
測(cè)量原理光譜干涉儀

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 實(shí)現(xiàn)高測(cè)量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對(duì)象和測(cè)量條件）

  • 不易受溫度變化的影響

  • 可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過(guò)程中使用的在線型。

  • 反射型允許從薄膜的一側(cè)測(cè)量

  • 只能測(cè)量透明涂膜層（取決于測(cè)量條件）

產(chǎn)品規(guī)格
測(cè)量厚度1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）　　　　
測(cè)量長(zhǎng)度50-5000 毫米
測(cè)量間距1 毫米 ~
最小顯示值0.001 微米
電源電壓AC100 伏 50/60 赫茲
工作溫度限制5～45℃（測(cè)量時(shí)溫度變化在1℃以內(nèi)）
濕度35-80%（無(wú)冷凝）
測(cè)量區(qū)域φ0.6毫米
測(cè)量間隙約 30 毫米