壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測(cè)技術(shù)介紹

發(fā)布時(shí)間：2022-07-05　點(diǎn)擊量：1076

壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測(cè)技術(shù)介紹

一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、價(jià)格低廉、用途廣泛的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)，已安裝了 5,000 多臺(tái)。它可用于從研發(fā)到生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)在線測(cè)量的廣泛應(yīng)用。
F20可以在1秒左右輕松測(cè)量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測(cè)量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信，因此可以從PLC或上位機(jī)控制。

ScAlN 薄膜厚度檢測(cè)特點(diǎn)

支持廣泛的薄膜厚度（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長(zhǎng)范圍（190nm 至 1700nm）
強(qiáng)大的膜厚分析
光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊型外殼
支持在線測(cè)量

測(cè)厚技術(shù)的主要用途

平板	單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、各種光學(xué)薄膜等
半導(dǎo)體	抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學(xué)鍍膜	減反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池	CdTe、CIGS、非晶硅等
	砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等
醫(yī)療保健	鈍化、藥物涂層等

相關(guān)設(shè)備介紹

模型	F20-UV	F20	F20-近紅外	F20-EXR	F20-UVX
測(cè)量波長(zhǎng)范圍	190 – 1100nm	380 – 1050nm	950 – 1700nm	380 – 1700nm	190 – 1700nm
膜厚測(cè)量范圍	1nm – 40μm	15nm – 70μm	100nm – 250μm	15nm – 250μm	1nm – 250μm
準(zhǔn)確性*	± 0.2% 薄膜厚度		± 0.4% 薄膜厚度	± 0.2% 薄膜厚度
準(zhǔn)確性*	1納米	2納米	3納米	2納米	1納米
測(cè)量光斑直徑	支持1.5 毫米或 0.5 毫米最小 0.1 毫米（可選）
光源	氘· 鹵素	鹵素			氘· 鹵素

* 由 Filmometry 提供的在 Si 基板上測(cè)量 SiO2 薄膜時(shí)的設(shè)備主體精度。

上一篇：日本nagno露點(diǎn)儀的類型和原理介紹

下一篇：通過浸涂進(jìn)行細(xì)顆粒排列技術(shù)

亚洲熟妇色自偷自拍另类,亚洲精品乱码久久久久久蜜桃麻豆,97精品人妻在线,国产精品久久妻无码网站

壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測(cè)技術(shù)介紹