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什么是等離子體態(tài)?

發(fā)布時(shí)間:2023-05-22 點(diǎn)擊量:869

什么是等離子體態(tài)?

等離子體態(tài)通常會(huì)被稱為“物質(zhì)的第四態(tài)"不同于自然界中的固體、液體或氣體,等離子體只能從持續(xù)接受能量的氣體中獲取。

舉個(gè)例子,在氣體中放置兩個(gè)電極并施加一定的電壓以產(chǎn)生放電,此時(shí)便可產(chǎn)生等離子體。這就產(chǎn)生了一種包含許多高活性物質(zhì)的電離介質(zhì),如離子(帶正電或負(fù)電)和激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子。

在表面處理中,正是利用了這些高活性物質(zhì)的特性,讓它們參與非??焖俚幕瘜W(xué)反應(yīng)。

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冷等離子體,熱等離子體?

根據(jù)制造等離子體的技術(shù)手段和預(yù)期用途,氣體介質(zhì)的溫度可保持在較低水平,接近環(huán)境溫度;又或者大幅上升,達(dá)到1000℃以上的溫度。這就是所謂的冷等離子體或熱等離子體。

常壓等離子體,或低壓等離子體?

等離子體可在低壓(或真空)或常壓下產(chǎn)生。
低壓等離子體需要在真空室中產(chǎn)生,一般是由真空泵制造低于大氣壓的壓力。這類裝置在表面處理方面提供了很大的可能性,但泵送時(shí)間的長(zhǎng)短往往是其工業(yè)發(fā)展中的一個(gè)限制。

在大氣壓力下,等離子體會(huì)由專門設(shè)計(jì)開發(fā)的設(shè)備中產(chǎn)生。因此常壓等離子體的配置具有雙重經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì):它避免了真空室和抽氣裝置的投入成本,并且,通過直接集成到連續(xù)運(yùn)行的生產(chǎn)線上,這可以直接提高生產(chǎn)效率。

在AcXys Technologies,令我們引以為豪的等離子體技術(shù)是獨(dú)立自主開發(fā)的,包括集成在主機(jī)中的可控功率電子裝置,和性能出色的的等離子體源。

我們所開發(fā)的等離子體技術(shù)與設(shè)備,使高速處理材料成為可能,并能與工業(yè)應(yīng)用中涉及的多種材料兼容。

等離子體處理對(duì)材料表面的影響

等離子體其顯著的化學(xué)反應(yīng)性,可以用來改造許多材料的表面。為了獲得這一結(jié)果,只需將參與反應(yīng)的氣流引向待處理的表面即可。

由此產(chǎn)生的可用于表面處理的化學(xué)反應(yīng)可分為以下三類。

清潔與去污

等離子體技術(shù)能夠去除極薄的表面污染層,無論是有機(jī)物還是碳?xì)浠衔铩?/span>

除了基于液體的清潔技術(shù)外,在某些應(yīng)用場(chǎng)景下也會(huì)使用等離子體清潔。

表面活化

表面活化是通過向材料表層添加原子或分子的方式,改變材料表面性質(zhì)的過程。

這一工藝現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中,尤其是當(dāng)涉及到需要增強(qiáng)粘合劑、油墨、油漆或清漆的附著力時(shí)。

薄膜沉積

等離子體技術(shù)同樣也會(huì)被應(yīng)用在薄膜沉積的工藝中。

可通過將待沉積的液態(tài)或氣態(tài)化學(xué)制品與等離子體混合,最終沉積在材料表層。