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膜厚測量系統(tǒng)

膜厚測量系統(tǒng)

產(chǎn)品型號： F20

所屬分類：測厚儀

產(chǎn)品時(shí)間：2024-09-10

簡要描述：日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20
一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應(yīng)用。

詳細(xì)說明：

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20

一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應(yīng)用。
F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊，因此可以通過PLC或上位機(jī)進(jìn)行控制。

主要特點(diǎn)

  • 支持廣泛的膜厚范圍（1 nm 至 250 μm）

  • 支持寬波長范圍（190nm 至 1700nm）

  • 強(qiáng)大的膜厚分析

  • 光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）

  • 緊湊的外殼

  • 支持在線測量

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20

主要應(yīng)用

平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學(xué)膜等。
半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學(xué)鍍膜防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等
引砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等
醫(yī)療的鈍化、藥物涂層等

產(chǎn)品陣容

模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX
測量波長范圍190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
膜厚測量范圍1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
準(zhǔn)確性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1納米2納米3納米2納米1納米
測量光斑直徑支持高達(dá)1.5 毫米或 0.5 毫米
最小 0.1 毫米（可選）
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

* Filmometry 提供的測量 Si 基板上的 SiO2 膜時(shí)器件主體的精度。




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